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机译:分析用于宽温度电容器应用的多层氮掺杂氧化铝和氧化dielectric介电膜
US Air Force Res Lab, Aerosp Syst Directorate, Wright Patterson AFB, OH 45433 USA.;
UES Inc, Beavercreek, OH 45432 USA.;
US Air Force Res Lab, Aerosp Syst Directorate, Wright Patterson AFB, OH 45433 USA.;
Wide temperature; Capacitor; Dielectric; Hafnium oxide; Aluminum oxide;
机译:原子层在硅上沉积的高k电介质氧化铝,氧化ha和氧化钛薄膜的热导率和热边界电阻
机译:用于高κ栅极电介质应用的原子层沉积氧化f膜:纳米薄膜的密度分析
机译:通过化学溶液沉积和金属 - 绝缘金属 - 金属介电电容器应用的氧化铝薄膜的表征
机译:低温金属有机化学气相沉积铝氧化物薄膜的界面质量和电气性能,用于高级CMOS栅极电介质应用
机译:层状,氮掺杂的氧化ha和氧化铝薄膜的开发和特性,可用作宽温度电容器电介质。
机译:智能设备应用中的铝掺杂氧化锌/二氧化钒多层薄膜的电热控制
机译:氧化Gate薄膜用作栅介质
机译:氧化铝的软/硬湿阳极氧化及其在薄膜多层电容器中的应用