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机译:通过模板掩膜的组合化学束气相沉积制备复杂的氧化物微结构
3D OXIDES, F-01630 St Genis Pouilly, France;
3D OXIDES, F-01630 St Genis Pouilly, France|Ecole Polytech Fed Lausanne, Lab Ceram, CH-1015 Lausanne, Switzerland;
3D OXIDES, F-01630 St Genis Pouilly, France;
3D OXIDES, F-01630 St Genis Pouilly, France;
Ecole Polytech Fed Lausanne, Lab Microsyst 1, CH-1015 Lausanne, Switzerland;
Ecole Polytech Fed Lausanne, Lab Ceram, CH-1015 Lausanne, Switzerland;
Stencil mask; Metalorganic precursors; Chemical Beam Vapour Deposition; Mask reusability; 3D structures; Additive technique;
机译:一种组合化学束气相沉积方法,通过共掺杂Si来调节Nb:TiO2薄膜的电导率
机译:用于氧化钨化学气相沉积的一系列新的氧代-烷氧基钨-β-酮酸酯复合钨前体的热分析和蒸气压
机译:组合气溶胶辅助化学气相沉积在形成镓铟氧化物薄膜中的应用
机译:燃烧化学气相沉积(C-CVD)在玻璃上沉积薄膜过渡金属氧化物(TMO)
机译:等离子体和离子束增强了金刚石和类金刚石碳的化学气相沉积。
机译:化学气相沉积法制备Cu-ZSM-5催化剂用于固定床反应器中苯酚的湿式过氧化催化
机译:化学束气相沉积系统的几何形状,用于薄氧化膜的有效组合研究:沉积膜特性与前体流动模拟