...
机译:不形成硅化物的硅基热线化学气相沉积策略
Fraunhofer Inst Surface Engn & Thin Films IST, D-38108 Braunschweig, Germany;
Fraunhofer Inst Surface Engn & Thin Films IST, D-38108 Braunschweig, Germany;
Fraunhofer Inst Surface Engn & Thin Films IST, D-38108 Braunschweig, Germany;
Fraunhofer Inst Surface Engn & Thin Films IST, D-38108 Braunschweig, Germany;
Hot-Wire CVD; Catalytic CVD; Silicide formation; Tungsten wire;
机译:在低基板温度下通过等离子体增强化学气相沉积和热线化学气相沉积沉积的薄膜的机械和压阻特性
机译:使用热线化学气相沉积在有和没有原子氢处理的情况下通过a-Si:H对晶体硅进行表面钝化的比较
机译:通过热线化学气相沉积在线沉积硅基薄膜
机译:迈向全热线TFT:通过热线化学气相沉积沉积氮化硅和非晶硅
机译:光伏用硅和氮化硅的热线化学气相沉积:实验,模拟和应用。
机译:热丝化学气相沉积法对NiSi / SiC核壳纳米线的固态有限成核
机译:热线化学气相沉积制备的微晶硅的沉积:沉积参数对材料性能和太阳能电池性能的影响
机译:衬底温度和氢稀释比对热线化学气相沉积法生长纳米硅薄膜性能的影响