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机译:共溅射沉积Ni-Ti薄膜的合成及其深度敏感技术的成分表征
Bhabha Atom Res Ctr Fuel Chem Div Mumbai 400085 Maharashtra India|Homi Bhabha Natl Inst Mumbai 400094 Maharashtra India;
Bhabha Atom Res Ctr Fuel Chem Div Mumbai 400085 Maharashtra India;
Bhabha Atom Res Ctr Natl Ctr Composit Characterizat Mat Hyderabad 500062 India;
Bhabha Atom Res Ctr Solid State Phys Div Mumbai 400085 Maharashtra India|Homi Bhabha Natl Inst Mumbai 400094 Maharashtra India;
Nickel-Titanium alloys; Thin films; Magnetron cosputtering; Surface oxidation; X-ray reflectivity; Secondary ion mass spectrometry; Depth distribution; Oxide layers; Composition analysis; Elemental depth profiling;
机译:由溅射沉积的Ni-Ti多层膜形成的形状记忆合金薄膜的表征
机译:非晶态Fe-P合金的电化学沉积薄膜第I部分。化学成分和相结构表征
机译:化学浴沉积技术沉积CdS_(1-x)Se_x三元合金薄膜的生长和表征
机译:Ni-Ti(形状记忆合金)薄膜的原位XRD和互补异位表征
机译:使用原子和分子层沉积技术沉积的无机和杂化有机-无机薄膜的生长,表征和后处理。
机译:B2矩阵与G.P.之间的边界的纳米应变场研究镍钛合金薄膜中的区域
机译:电子束沉积ZnSe1-xTex合金薄膜的合成与表征
机译:扫描X射线衍射:一种具有高成分分辨率的技术,用于研究共沉积薄膜中的相形成