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机译:磁控共溅射从靶材上制备的纳米晶Ni-Ti合金薄膜:衬底条件的影响
PSG Inst Adv Studies, Nanotech Res Innovat & Incubat Ctr, Coimbatore 641004, Tamil Nadu, India|Indian Inst Technol, Dept Met & Mat Engn, Kharagpur 721302, W Bengal, India;
Indian Inst Technol, Dept Met & Mat Engn, Kharagpur 721302, W Bengal, India;
Indian Inst Technol, Dept Met & Mat Engn, Kharagpur 721302, W Bengal, India|Amity Univ Kolkata, Kolkata 700135, India;
Ni-Ti alloy; Thin films; Nanocrystallinity; Phase transformation; X-ray diffraction; Sputter deposition;
机译:磁铜合金薄膜沉积过程中基板温度的影响通过磁控耦合对蓄电工艺
机译:氧气流速和衬底位置对纯铜靶射频磁控溅射制备的Cu-氧化物薄膜性能的影响
机译:磁控溅射ITO靶制备ITO薄膜(等离子体条件和衬底温度对ITO薄膜性能的影响)
机译:电极间距和靶角对磁控共溅射制备的掺Al Zno薄膜元素浓度和薄膜性能的影响
机译:纳米级镍钛形状记忆合金薄膜是通过使用偏置靶离子束沉积制备的。
机译:磁控共溅射制备可降解冠状动脉支架的二元非晶态Zn-Zr合金薄膜的初步研究
机译:制备镁硅化镁热电合金薄膜的磁控凝固构型设计