机译:反应离子束辅助交流双磁控溅射制备TaOxNy薄膜的光学应用
Univ Laval, COPL, Quebec City, PQ G1V 0A6, Canada;
Univ Laval, COPL, Quebec City, PQ G1V 0A6, Canada;
Univ Laval, COPL, Quebec City, PQ G1V 0A6, Canada;
Univ Moncton, Dept Phys & Astron, Thin Films & Photon Res Grp GCMP, Moncton, NB E1A 3E9, Canada;
Univ Laval, Dept Civil Engn, Quebec City, PQ G1V 0A6, Canada;
Univ Laval, COPL, Quebec City, PQ G1V 0A6, Canada;
Tantalum oxynitrides; Reactive ion beam-assisted ac double magnetron sputtering; Refractive index; Optical coatings; Optical applications; Bragg mirrors;
机译:磁控溅射沉积氧氮化钽TaOxNy薄膜的多相结构
机译:离子束辅助直流磁控反应溅射制备非晶态氮化铜薄膜及其光学常数
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机译:Ta 2 sub> O 5 sub>和Al 2 sub> O 3 sub>的反应性双磁控溅射:光学和结构性能以及薄膜应用领域
机译:在高温“智能”摩擦应用中,在封闭场不平衡磁控溅射中反应性沉积的氮化铝压电薄膜。
机译:射频磁控溅射制备(MgAl)共掺杂ZnO薄膜的光电性能研究与研究
机译:用于平面波导的等离子辅助反应磁控溅射介电薄膜的结构特性和光学性能