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机译:使用直接激光干涉图案控制透明导电氧化物的光学性能
Fraunhofer Inst Werkstoff & Strahltech IWS, Winterbergstr 28, D-01277 Dresden, Germany|Tech Univ Dresden, Inst Mfg Technol, George Baehr Str 1, D-01069 Dresden, Germany;
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Bosch Solar Energy AG, August Broemel Str 6, D-99310 Arnstadt, Germany;
Bosch Solar Energy AG, August Broemel Str 6, D-99310 Arnstadt, Germany;
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Thin-film solar cell; Transparent conducting oxide; Direct laser interference patterning; Light management; Diffraction gratings; Surface engineering;
机译:多壁碳纳米管基透明导电涂层的直接激光干涉图案
机译:低反射透明导电氧化物杂化膜的激光干涉光刻和纳米压印技术
机译:在氧化石墨烯薄膜上对还原的氧化石墨烯透明电路进行激光直接图案化
机译:带有透明导电氧化锌背面电极的a-Si太阳能组件的激光图案
机译:通过中和离子束溅射和脉冲激光沉积沉积的n型薄膜透明导电氧化物的电学和光学性质的制备和表征。
机译:表面纳米粗糙度对直接激光干涉构图的微结构金属表面润湿性能的影响
机译:在氧化石墨烯薄膜上对还原的氧化石墨烯透明电路进行激光直接图案化