...
机译:使用原子层交替沉积氧化铋和氧化铁层的氧化铋铁薄膜
Univ Helsinki, Dept Chem, POB 55, FI-00014 Helsinki, Finland;
Univ Helsinki, Dept Chem, POB 55, FI-00014 Helsinki, Finland;
Univ Helsinki, Dept Chem, POB 55, FI-00014 Helsinki, Finland|Univ Tartu, Inst Phys, W Ostwald 1, EE-50411 Tartu, Estonia;
NICPB, Akad Tee 23, EE-12618 Tallinn, Estonia|Jaypee Univ, Bulandshahr 203390, UP, India;
Univ Helsinki, Dept Chem, POB 55, FI-00014 Helsinki, Finland;
Univ Helsinki, Dept Chem, POB 55, FI-00014 Helsinki, Finland;
Univ Helsinki, Dept Chem, POB 55, FI-00014 Helsinki, Finland;
Univ Helsinki, Dept Phys, POB 64, FI-00014 Helsinki, Finland;
NICPB, Akad Tee 23, EE-12618 Tallinn, Estonia;
Univ Helsinki, Dept Chem, POB 55, FI-00014 Helsinki, Finland;
Univ Helsinki, Dept Chem, POB 55, FI-00014 Helsinki, Finland;
Multiferroic; Heterostructures; Atomic layer deposition; Ferromagnetic; Ferroelectric;
机译:含铋氧化物薄膜原子层沉积的铋前体
机译:直接液体注入(DLI)法制备铋氧化钛薄膜的原子层沉积(ALD)
机译:三苯基铋原子层沉积生长氧化铋膜的实验研究
机译:氧化铁和铋的脉冲金属有机化学气相沉积。
机译:氧化钡铁和氧化铋铋外延膜的合成与表征。
机译:原子层的电磁性能沉积的氧化铁Er薄膜
机译:二元和三元氧化铅和铋薄膜的原子层沉积