机译:反应性大功率脉冲和射频磁控溅射制备Co_3O_4纳米薄膜的电,光和催化性能的比较研究
CAS Vvi Inst Phys Na Slovance 1999-2 Prague 18221 8 Czech Republic;
CAS J Heyrovsky Inst Phys Chem Vvi Dolejskova 2155-3 Prague 18223 8 Czech Republic;
Univ Chem & Technol Prague Cent Labs Tech 5 Prague 16628 6 Czech Republic;
Charles Univ Prague Fac Math & Phys V Holesovickach 747-2 Prague 18200 8 Czech Republic;
Univ Chem & Technol Prague Dept Solid State Chem Tech 5 Prague 16628 6 Czech Republic;
Cobalt(II; III) oxide; Magnetron sputtering; High-power impulse magnetron sputtering; Catalytic oxidation;
机译:反应性大功率脉冲和射频磁控溅射制备Co_3O_4纳米薄膜的电,光和催化性能的比较研究
机译:使用大功率脉冲反应磁控溅射制备钽氮化钽薄膜的微观结构和电性能
机译:通过大功率脉冲磁控溅射制备的In-Ga-Zn-O薄膜,具有可调的光学和电学性质
机译:DC反应磁控溅射制备的Zr掺杂ZnO薄膜电气和光学性能研究
机译:通过大功率脉冲磁控溅射沉积的银膜的电学和光学性质。
机译:射频磁控溅射制备(MgAl)共掺杂ZnO薄膜的光电性能研究与研究
机译:通过射频磁控溅射制备(100)的内存和电性能的(100)的ALN薄膜