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机译:O-2压力对脉冲激光沉积TiO2-SiO2复合薄膜结构,形貌和光学性能的影响
Indian Inst Technol, Indian Sch Mines, Dept Appl Phys, Dhanbad 826004, Bihar, India;
Indian Inst Technol, Indian Sch Mines, Dept Appl Phys, Dhanbad 826004, Bihar, India;
Indian Inst Technol, Indian Sch Mines, Dept Appl Phys, Dhanbad 826004, Bihar, India;
UGC DAE Consortium Sci Res, Indore 452017, India;
UGC DAE Consortium Sci Res, Indore 452017, India;
Titanium oxide; Silicon oxide; Composite; Pulsed laser deposition; Band gap; Oxygen vacancy;
机译:氧气压力对脉冲激光沉积制备Nb掺杂ZnO薄膜结构,电学和光学性能的影响
机译:氧分压对脉冲激光沉积二氧化钛薄膜微结构和光学性能的影响
机译:氩气压力对Zn0.9SE:Co-0.1薄膜的微观结构和光学性能的影响
机译:在不同氧气压力下通过脉冲激光沉积制备的未掺杂和掺杂Cu的ZnO薄膜的结构和光学性质
机译:原位热退火工艺对脉冲激光沉积制造CDS Cdte薄膜太阳能电池结构,光学和电性能的影响
机译:脉冲激光沉积法制备MgAl2O4-(Ni0.5Zn0.5)Fe2O4薄膜的磁性和光学性质
机译:脉冲激光沉积制备的铁掺杂WO3薄膜的结构,形态学和光学性质