机译:通过大功率脉冲磁控溅射制备的In-Ga-Zn-O薄膜,具有可调的光学和电学性质
Univ West Bohemia, European Ctr Excellence, Dept Phys, Univ 8, Plzen 30614, Czech Republic;
Reactive high-power impulse magnetron sputtering; IGZO thin films; Tunable electrical and optical properties;
机译:反应性大功率脉冲和射频磁控溅射制备Co_3O_4纳米薄膜的电,光和催化性能的比较研究
机译:反应性大功率脉冲和射频磁控溅射制备Co_3O_4纳米薄膜的电,光和催化性能的比较研究
机译:使用大功率脉冲反应磁控溅射制备钽氮化钽薄膜的微观结构和电性能
机译:氧气流速对反应磁控溅射制备的氧化铜薄膜结构,光学和电性能的影响
机译:通过大功率脉冲磁控溅射沉积的银膜的电学和光学性质。
机译:射频磁控溅射制备(MgAl)共掺杂ZnO薄膜的光电性能研究与研究
机译:DC磁控溅射制备的氧化铜薄膜的电气和光学性质