机译:气相沉积电子束等离子体化学气相沉积法合成锡催化氧化硅纳米线的形貌和性能与沉积时间的关系
SB RAS, Kutateladze Inst Thermophys, Ac Lavrentiev Ave 1, Novosibirsk 630090, Russia;
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SB RAS, Kutateladze Inst Thermophys, Ac Lavrentiev Ave 1, Novosibirsk 630090, Russia;
SB RAS, Nikolaev Inst Inorgan Chem, Ac Lavrentiev Ave 3, Novosibirsk 630090, Russia;
SB RAS, Rzhanov Inst Semicond Phys, Ac Lavrentiev Ave 13, Novosibirsk 630090, Russia;
Novosibirsk State Univ, Pirogova Str 2, Novosibirsk 630090, Russia;
Nanowires; Silicon oxide; Vapor-liquid-solid mechanism; Photoluminescence; Hydrophilicity; Plasma-enhanced chemical vapor deposition;
机译:通过气射电子束等离子体化学气相沉积法得到氧化气氛在氧化气氛中的影响
机译:气体喷射电子束等离子体化学气相沉积法合成二氧化硅纳米线“微绳”排列阵列
机译:气体射流电子束等离子体化学气相沉积法合成高生长速率的非晶硅膜
机译:电子回旋共振等离子体增强化学气相沉积法沉积氧化硅的性质
机译:氮化铝和氮化硅的低温热化学气相沉积和催化化学气相沉积
机译:射频等离子体增强化学气相沉积(RF PECVD)反应器中样品高度对氮化硅薄膜光学性能和沉积速率的影响
机译:脉冲等离子体增强化学气相沉积法研究Zn金属催化的硅纳米线的生长和表征
机译:化学气相沉积和等离子体辅助化学气相沉积技术形成的碳 - 碳复合材料氧化保护系统。