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机译:在InP(100)衬底上生长的拉伸应变InAlAs层中的各向异性表面形态
KIST, Ctr Spintron, Seoul 02792, South Korea;
KIST, Ctr Spintron, Seoul 02792, South Korea;
KIST, Ctr Spintron, Seoul 02792, South Korea;
KIST, Ctr Optoelect Mat & Devices, Seoul 02792, South Korea;
KIST, Adv Anal Ctr, Seoul 02792, South Korea;
KIST, Adv Anal Ctr, Seoul 02792, South Korea;
KIST, Ctr Optoelect Mat & Devices, Seoul 02792, South Korea;
KIST, Ctr Spintron, Seoul 02792, South Korea;
Epitaxial growth; III-V compound semiconductor; Cross-hatch array; Preferential surface diffusion; Microcrack; Anisotropic strain relaxation;
机译:外延低温种植的结构特征{InGaAs / Inalas} INP(100)和INP(111)的基板上的超晶格
机译:在GaAs衬底上生长的In_(0.52)Al_(0.48)As / In_(0.53)Ga_(0.47)As异质结双极晶体管中使用的InP,InAlAs和AlGaAsSb变质缓冲层的热特性
机译:MBE在邻近(1 1 1)B InP衬底上通过MBE生长的InAlAs层的材料特性
机译:(100)和非(100)InP衬底上InAlAs / InGaAs MQW和异质结构的外延问题和生长形态
机译:反应磁控溅射生长外延TiN(001)层的表面形貌演变。
机译:缓冲剂类型对InP(100)衬底上生长的In0.82Ga0.18As外延层的影响
机译:缓冲类型对INP(100)衬底生长的IN0.82GA0.18AS外延层的影响
机译:在Inp< 001>上的低温mBE生长的Inalas层的TEm结构研究。基质