机译:退火对溅射沉积CuGaO_2薄膜光学和电学性质的影响
Asia Univ, Dept Photon & Commun Engn, 500 Lioufeng Rd, Taichung 41354, Taiwan;
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CuGaO2; Thin film; Sputtering; Annealing; Structure; Optoelectronic properties;
机译:前驱物浓度和不同退火环境对通过喷雾热解技术沉积的纳米结构V_2O_5薄膜的结构,光学和电学性质的影响
机译:γ射线辐照和热退火对真空沉积钒基2,3-萘酞菁薄膜的结构,光学和电学性质的影响
机译:γ射线辐照和热退火对真空沉积钒基2,3-萘酞菁薄膜的结构,光学和电学性质的影响
机译:溶胶凝胶浸涂技术沉积锑氧化锑纤维薄膜结构,电气和光学性能的退火效应
机译:通过常压金属有机化学气相沉积法沉积的氮化铝薄膜的电,结构和光学性质。
机译:快速热退火对原子层沉积生长Zr掺杂ZnO薄膜的结构电学和光学性质的影响
机译:通过准分子激光退火增强室温沉积铝掺杂氧化锌(AZO)薄膜的电学和光学性能