机译:蓝宝石表面光滑的外延铜膜,适合高质量石墨烯生长
Hokkaido Univ, Inst Catalysis, N21 W10, Sapporo, Hokkaido 0010021, Japan;
Hokkaido Univ, Inst Catalysis, N21 W10, Sapporo, Hokkaido 0010021, Japan;
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Epitaxial growth; Cu(111) films; Crystal orientation; Roughness; Chemical vapor deposition; Defects;
机译:蓝宝石的晶片级外延单晶Ni(111)薄膜石墨烯生长
机译:通过嵌入杂化AlN缓冲层在石墨烯/蓝宝石衬底上外延生长和表征GaN薄膜
机译:通过嵌入杂化AlN缓冲层在石墨烯/蓝宝石衬底上外延生长和表征GaN薄膜
机译:蓝宝石衬底上三种外延金属膜上CVD石墨烯的生长
机译:化学气相沉积法在单晶铜表面上生长外延石墨烯
机译:SC0.09Al0.91N和SC0.18A10.82N的外延生长通过磁控溅射对表面声波应用的磁控溅射薄膜
机译:通过脉冲激光沉积在蓝宝石和硅上外延生长高质量的Zns薄膜
机译:蓝宝石水晶上的氧化铝薄膜显示受限制的外延生长