机译:利用金属有机化学气相沉积和原位磷掺杂进行重掺杂n〜+ _Ge层的外延生长
Nagoya Univ, Dept Crystalline Mat Sci, Grad Sch Engn, Nagoya, Aichi 4648603, Japan;
Nagoya Univ, Dept Crystalline Mat Sci, Grad Sch Engn, Nagoya, Aichi 4648603, Japan;
Nagoya Univ, Dept Crystalline Mat Sci, Grad Sch Engn, Nagoya, Aichi 4648603, Japan;
Nagoya Univ, Dept Crystalline Mat Sci, Grad Sch Engn, Nagoya, Aichi 4648603, Japan;
Germanium; Phosphorus; Doping; Metal-organic chemical vapor deposition; Epitaxial growth;
机译:利用低温金属有机化学气相沉积法生长的原位掺磷Ge_(1-x)Sn_x层
机译:通过金属有机化学气相沉积在中远红外(5-50μm)范围内生长的n掺杂Ga_(1-x)Mn_xN外延层的光学特性
机译:超净低压化学气相沉积法在Si(100)上低温Si外延生长中B的重原子层掺杂
机译:超高真空化学气相沉积法观察Si(111)上原位掺杂B的外延Ge层的生长
机译:氧化锌薄膜的金属有机化学气相沉积生长和氮掺杂
机译:金属有机化学气相沉积在蓝宝石衬底上生长的低Al成分p-GaN / Mg掺杂Al0.25Ga0.75N / n + -GaN极化诱导的反向隧穿结
机译:通过常压 - 化学气相沉积在Ge上进行未掺杂和原位B掺杂的Gesn外延生长
机译:金属有机化学气相沉积法生长和掺杂al(as)sb