机译:Al / Si原子比对磁控溅射Al_(1-x)Si_xO_y涂层光学和电学性能的影响
Inst Super Tecn, Ctr Ciencias & Tecnol Nucl, EN 10,Km 139-7, P-2695066 Bobadela Lrs, Portugal;
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Univ Minho, Ctr Phys, Campus Azurem, P-4800058 Guimaraes, Portugal;
Univ Minho, QuantaLab, Campus Gualtar, P-4710057 Braga, Portugal;
Sputtering; Aluminum silicon oxide; Optical properties; Dielectric properties; Electrical conductivity;
机译:磁控溅射Al_(1-x)-Mn_x涂层在中性盐溶液中的腐蚀行为
机译:由磁控溅射沉积的IN_(1-X)GA_XSB膜的原子组成,结构和电性能
机译:磁控溅射外延制备scan浓度为x = 0.41的纤锌矿型Al_(1-x)Sc_xN / Al_2O_3的光学常数和带隙
机译:Zn_(1-X)V_XO的纳米结构薄膜的生长使用具有低和高钒的RF-磁控溅射:物理化学表征,光学和电学性能评估
机译:通过大功率脉冲磁控溅射沉积的银膜的电学和光学性质。
机译:射频磁控溅射制备(MgAl)共掺杂ZnO薄膜的光电性能研究与研究
机译:Al / Si原子比对磁控溅射Al1-Xsixoy涂层光学和电性能的影响