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机译:HfO_2 / SiO_2基高反射涂层在1064 nm处的缺陷吸收与纳秒激光诱导的损伤之间的关系
Fine Opt Engn Res Ctr, Chengdu 610041, Sichuan, Peoples R China;
Chengdu Novaphoton Co Ltd, Chengdu 610097, Sichuan, Peoples R China;
机译:HfO_2 / SiO_2 AR涂层在1064 nm处单脉冲和多脉冲激光损伤的统计研究
机译:SiO_2保护层对飞秒激光诱导的HfO_2 / SiO_2多层高反射膜损伤的影响
机译:高反射涂层中355 nm纳秒和1064 nm皮秒激光诱导的损伤的比较
机译:双波长激光诱导的HFO_2 / SiO_2二向色涂层的损伤阈值,在527nm处开发出高传输,在1054nm的高反射下
机译:激光诱导的薄膜介电涂层损伤
机译:532 nm和1064 nm激光诱导击穿光谱法检测水稻叶片中铬含量的比较研究
机译:研究介电光学涂层在1064 nm处的材料特性与激光损伤阈值之间的关系