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空圧式除振装置と磁気軸受に対する周期振動の補償

机译:气动隔振器和电磁轴承的周期性振动补偿

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摘要

精密加工や精密測定で使用する産業機器は,機器の性 能を維持するために振動の影響を抑える必要がある.本 稿では,半導体の露光処理や電子顕微鏡による測定など で導入されている空圧式除振装置とターボ分子ポンプ を採り上げ,各装置に対する振動補償を考える.まず, 空圧式除振装置は除振台を支えるために空気ばねを搭 載しており,同ばねに圧縮空気が供給されている.しか し,コンプレッサによる圧縮空気の生成過程において空 気圧は変動するため,それが除振台を振動させる要因と なる.つぎに,ターボ分子ポンプは内部のロー夕を高速 回転させて排気する装置であり,たとえば半導体露光装 置のチャンバ内を真空に保っために使用される.同ボン プ内には能動型磁気軸受が内蔵されており.それにより ロータが支持される.一方,ロータの偏心,磁気軸受の 電磁力のばらつき,電磁石の設置位置のずれなどにより ロータに不釣り合い振動が生じる.その結果,回転の振 れ回りが増大することでケーシングに伝わる振動も顕著 になり,ターボ分子ポンプへの取り付け機器の局所振動 が励起される.さらに,不釣り合い振動により回転体の 弾性振動の固有周波数,すなわち危険速度の通過が困難 となる.
机译:为了保持设备的性能,用于精密加工和精密测量的工业设备需要抑制振动的影响。本文使用了用于半导体的曝光加工和电子显微镜测量的空间。考虑到每个设备的振动补偿,我们将考虑压力型振动隔离设备和涡轮分子泵。但是,由于在由压缩机产生的压缩空气的过程中大气压会变动,因此成为使防振台振动的因素,接着,涡轮分子泵使内转子高速旋转。一种用于排出空气的装置,该装置例如用于在半导体曝光装置的腔室中保持真空,该装置具有内置的活动磁轴承,该轴承支撑转子。由于转子的偏心率,磁轴承电磁力的变化,电磁体安装位置的位移等,转子中会产生不平衡的振动。结果,由于旋转的回旋增加,传递到壳体的振动变得明显。涡轮分子泵上连接的设备的局部振动被激发,并且不平衡的振动使得难以通过旋转体的弹性振动的固有频率,即临界速度。

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