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机译:用金刚石阴极直流等离子体化学气相沉积法高速率合成金刚石的尝试
Diamond; Diamond Films; DC Plasma; Low Temperature Cathode;
机译:在较低的基板温度下使用CH4 + CO2 + H-2气体混合物通过DC等离子体CVD合成硼掺杂的金刚石薄膜,并形成n-Si / p金刚石异质结
机译:沉积DC /等离子辅助HFCVD沉积金刚石/β-SiC/硅化钴复合中间层以提高WC-Co基体上金刚石涂层的附着力
机译:多阴极直流等离子体辅助化学气相沉积(DC PACVD)方法大面积沉积金刚石
机译:金刚石薄膜用直流电弧等离子体喷射合成:衬底温度对金刚石薄膜质量的影响
机译:用于等离子体辅助CVD金刚石合成和等离子体辅助燃烧的微波腔施加器的研究。
机译:新型金刚石薄膜合成策略:无氢的微波等离子体CVD法制备甲醇和氩气氛
机译:使用金刚石阴极的DC等离子体CVD试验金刚石合成的高增长速率。
机译:高功率密度微波甲烷/氢/氧等离子体在高温下合成金刚石