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【24h】

マイクロ波プラズマを用いた医療材料低温プロセス技術

机译:微波等离子体用于医用材料的低温处理技术

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摘要

現在,さまざまな分野においてプラズマを用いた各種材料 表面処理に関する研究開発が精力的に行われている。近年の 半導体産業を支えたULSIなど半導体デバイスのプラズマプ ロセス技術では,主にプラズマ中に生成されたラジカルと基 板材表面との化学的反応を利用したエッチング,アッシング あるいは化学的気相成長法(CVD)などが用いられ,現在で は数10 nmスケールの超微細化加工技術を実現している。
机译:当前,在使用等离子体的各种材料的表面处理的各个领域中积极进行研发。在支持最近的半导体工业的用于诸如ULSI的半导体器件的等离子体处理技术中,蚀刻,灰化或化学气相沉积(CVD)主要利用等离子体中产生的自由基与基板表面之间的化学反应。 )用于实现数十纳米规模的超细加工技术。

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