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透明導電膜(ITO)のプロセスと膜特性

机译:透明导电膜(ITO)工艺和膜特性

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摘要

透明導電膜は,ディスプレイ,タツチパネル,太陽電池などの幅広い分野で使用され.全ての分野に共通して高透過かつ低抵抗な性能が求められる。また,製造の観点から.低コストで安定生産を可能にする材料が求められている。デイスプレイの傾向としては.高精細,低消費電力が差別化のキーワードになっており.最新の携帯端末では300ppi以上の高精細なディスプレイを搭載する機種が增えている。このため,透明導電膜には,パターニングの容易性と光損失を低減させるための高透過特性が必須である。
机译:透明导电膜广泛用于显示器,触摸屏,太阳能电池等领域,在所有领域都要求高透明性和低电阻。从制造的观点出发,需要能够以低成本稳定生产的材料。高清晰度和低功耗是显示器发展趋势的关键,最新的移动终端越来越多地配备300 ppi或更高的高清晰度显示器。因此,透明导电膜必须具有容易的构图和高透射特性以减少光损耗。

著录项

  • 来源
    《表面技術》 |2013年第7期|396-399|共4页
  • 作者

    新井 真;

  • 作者单位

    (株)アルバック超材料研究所(〒253-8543 神奈川県茅ケ崎市萩園2500);

  • 收录信息
  • 原文格式 PDF
  • 正文语种 jpn
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