РАЗВИТИЕ МЕТОДОВ СТЫКОВКИ ПОЛЕЙ ЭКСПОНИРОВАНИЯ ПРИ ИСПОЛЬЗОВАНИИ ЭЛЕКТРОННО-ЛУЧЕВОЙ ЛИТОГРАФИИ НА ПРИМЕРЕ БРЭГГ-ФРЕНЕЛЕВСКИХ ЛИНЗ ДЛЯ РЕНТГЕНОВСКОГО ИЗЛУЧЕНИЯ

摘要

Предложен метод, позволяющий более чем на порядок улучшить точность стыковки полей экспонирования в электронно-лучевой литографии на основе растрового электронного микроскопа со стандартными механическими столами, используя маркерные знаки, изготовленные контактной фотолитографией. С помощью метода создана Брэгг-Френелевская линза (1-3-5 порядков), что позволило на порядок уменьшить ошибку стыковки полей экспонирования, получаемую при использовании механических столиков.%The method of the alignment between nearby exposure fields for e-beam lithography systems without laser-interferometric positioning system was suggested. The alignment markers created by photolithography are using in the method. The method was applied for X-ray bragg-fresnel lens creating. In results the alignment decreased by an order.