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Asuka project to select tools this year

机译:飞鸟计划今年选择工具

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摘要

It looks like suppliers already working with Selete will have the advantage in getting their tools into a fab now being planned for Japan's new research consortium's fab. The Asuka Project researchers plan to start selecting tools this year to install in the government's new 300mm research fab in Tsukuba in the first half of 2002. The line will be used to develop EUV, EPL, and mask technology, a transistor module with a gate stack using a new high-k material, and an interconnect module using copper and a new low-k dielectric. Researchers want to collaborate with mate- rials and equipment suppliers on developing process technology and improving tools for the l00nm and 70nm nodes.
机译:看起来已经与Selete合作的供应商将有优势将他们的工具带入目前正计划为日本新研究财团的晶圆厂使用的晶圆厂中。 Asuka Project研究人员计划从2002年上半年开始选择工具,以在2002年上半年在筑波政府新的300mm研究工厂中安装。该生产线将用于开发EUV,EPL和掩模技术,这是一种带门的晶体管模块。使用新的高k材料堆叠,使用铜和新的低k电介质的互连模块。研究人员希望与材料和设备供应商合作,共同开发工艺技术并改进适用于100nm和70nm节点的工具。

著录项

  • 来源
    《Solid state technology》 |2001年第augs期|p.S4|共1页
  • 作者

  • 作者单位
  • 收录信息 美国《科学引文索引》(SCI);美国《工程索引》(EI);
  • 原文格式 PDF
  • 正文语种 eng
  • 中图分类 一般性问题;
  • 关键词

  • 入库时间 2022-08-18 01:37:07

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