首页> 外文期刊>Solid state technology >Ebara steps up technology development, plans US push
【24h】

Ebara steps up technology development, plans US push

机译:bar原加速技术开发,计划美国推动

获取原文
获取原文并翻译 | 示例
       

摘要

Abrasive-free slurries. Fixed abrasives. Web-type platforms. Upside down tools. Now there is yet another new approach to the nagging problem of high cost of ownership and less than perfect performance of CMP tools. Japan's big CMP supplier, Ebara Corp., expects to introduce a new bonded-abrasive pad that can be retrofitted onto a standard rotary tool later this year. Ebara has held onto its number two position in the CMP market mainly on its equipment's workhorse reliability.
机译:无磨料浆。固定磨料。 Web型平台。倒置工具。现在,还有另一种新方法可以解决高昂的拥有成本和CMP工具的性能不足的困扰。日本最大的CMP供应商Ebara Corp.预计将在今年晚些时候推出一种新的粘合磨料垫,该磨料垫可以改装到标准的旋转工具上。 Ebara在CMP市场上保持了第二名的位置,主要是因为其设备的主力可靠性。

著录项

  • 来源
    《Solid state technology》 |2001年第augs期|p.S4S6|共2页
  • 作者

  • 作者单位
  • 收录信息 美国《科学引文索引》(SCI);美国《工程索引》(EI);
  • 原文格式 PDF
  • 正文语种 eng
  • 中图分类 一般性问题;
  • 关键词

  • 入库时间 2022-08-18 01:37:07

相似文献

  • 外文文献
  • 中文文献
  • 专利
获取原文

客服邮箱:kefu@zhangqiaokeyan.com

京公网安备:11010802029741号 ICP备案号:京ICP备15016152号-6 六维联合信息科技 (北京) 有限公司©版权所有
  • 客服微信

  • 服务号