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IEEE VLSI Symposia: Hot tech in tropical locale

机译:IEEE VLSI研讨会:热带地区的热门技术

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摘要

For 22 years, semiconductor engineers from both sides of the Pacific have met at the IEEE VLSI Technology and Circuits Symposia, mostly in Hawaii, This year's meetings took place in Honolulu, and despite the worst industry downturn ever (travel restrictions, etc.), 551 people attended the technology symposium, down only a bit from last year's record high. More than half were from outside the US, with Japan contributing the largest contingent, both in papers and attendees. In spite of the glorious tropical surroundings, most attended the all-day sessions on such advanced topics as SOI, CMOS scaling and reliability, high-and low-k dielectrics, and new memory types.
机译:22年以来,太平洋两岸的半导体工程师在主要在夏威夷举行的IEEE VLSI技术和电路研讨会上举行了会议。今年的会议在檀香山举行,尽管有史以来最严重的行业衰退(旅行限制等),共有551人参加了该技术研讨会,仅比去年的历史新高下降了一点。超过一半的人来自美国以外,日本在论文和参会人员中占最大的队伍。尽管热带地区环境宜人,但大多数人还是全天参加了有关SOI,CMOS缩放和可靠性,高k和低k电介质以及新的存储器类型等高级主题的会议。

著录项

  • 来源
    《Solid state technology》 |2002年第8期|p.303234|共3页
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  • 作者单位
  • 收录信息 美国《科学引文索引》(SCI);美国《工程索引》(EI);
  • 原文格式 PDF
  • 正文语种 eng
  • 中图分类 一般性问题;
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