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Battle heats up for growth market in implant

机译:植入式增长市场之战升温

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摘要

The ion implantation market appears set for powerful growth, projected to almost triple over the next five years from an estimated US$819 million in 2001 to US$2.433 billion by 2006, with a CAGR of some 24%, according to VLSI Research (Table 1). Three vendors, Axcelis Technologies (including the company's joint venture, Sumitomo/Eaton Nova), Applied Materials, and Varian Semiconductor Equipment Associates (VSEA), split most of the market, with leadership bouncing from one to the other in the major categories: high-current, medium-current, and high-energy implanters (Table 2). There is an intense battle for market share, with each vendor claiming supremacy for features in contending systems, benefiting users as a result. While all the toolmakers have made great strides in meeting ITRS roadmap challenges, much more remains to be done.
机译:离子注入市场似乎有望实现强劲增长,根据VLSI Research的预测,在未来五年中,离子注入市场将从2001年的8.19亿美元增长到2006年的24.33亿美元,几乎增长三倍,复合年增长率约为24%(表1)。 。 Axcelis Technologies(包括该公司的合资企业Sumitomo / Eaton Nova),应用材料和瓦里安半导体设备协会(VSEA)这三家供应商将大部分市场分割开来,在以下主要类别中,领导地位从一个跳到另一个电流,中电流和高能量注入机(表2)。争夺市场份额的斗争非常激烈,每个供应商都声称对竞争系统的功能至高无上,从而使用户受益。尽管所有工具制造商在应对ITRS路线图挑战方面都取得了长足进步,但还有许多工作要做。

著录项

  • 来源
    《Solid state technology》 |2002年第3期|p.323478|共3页
  • 作者

    Debra Vogler;

  • 作者单位
  • 收录信息 美国《科学引文索引》(SCI);美国《工程索引》(EI);
  • 原文格式 PDF
  • 正文语种 eng
  • 中图分类 一般性问题;
  • 关键词

  • 入库时间 2022-08-18 01:36:52

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