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Enhanced process metrology using plasma parameters in FDC

机译:使用FDC中的等离子体参数增强工艺计量

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摘要

Automotive device manufacturers have to meet increasing levels of quality as their customers demand a zero defects quality level. However, quality and reliability at reasonable costs require excellent process control, particularly for plasma etch and deposition. Production tools provide a large amount of data, but most of them characterize the tool hardware instead of the process. Using additional sensors and an efficient data management system provides a significant benefit and closes the gap between process and tool data.
机译:汽车设备制造商必须满足不断提高的质量水平,因为他们的客户要求零缺陷质量水平。但是,以合理的成本获得质量和可靠性需要出色的过程控制,尤其是对于等离子蚀刻和沉积。生产工具提供了大量数据,但是其中大多数是工具硬件而不是过程的特征。使用附加的传感器和高效的数据管理系统可带来显着的收益,并缩小了过程数据和工具数据之间的差距。

著录项

  • 来源
    《Solid state technology》 |2008年第6期|p.37-384041|共4页
  • 作者

    Dennis Foeh;

  • 作者单位

    Micronos GmbH, Freiburg, Germany;

  • 收录信息 美国《科学引文索引》(SCI);美国《工程索引》(EI);
  • 原文格式 PDF
  • 正文语种 eng
  • 中图分类 一般性问题;
  • 关键词

  • 入库时间 2022-08-18 01:35:33

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