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Creating phase-change memory devices with GeTe thin films

机译:使用GeTe薄膜创建相变存储设备

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摘要

With advantages including low cost, low programming voltage and excellent scalability to nanoscale cell sizes, phase-change memory (PCM) is one of the promising candidates for next-generation nonvolatile memory applications [1]. The technology is based on fast and reversible phase-change effects in chalcogenide materials (such as sulfides, selenides and tellurides), causing them to switch between crystalline and amorphous states. But the inherent instability of these materials in their amorphous states reduces the archival life of the memory cell.
机译:相变存储器(PCM)具有低成本,低编程电压和出色的纳米级单元可扩展性等优点,是下一代非易失性存储器应用的有前途的候选者之一[1]。该技术基于硫族化物材料(例如硫化物,硒化物和碲化物)中快速且可逆的相变效应,从而使它们在晶态和非晶态之间切换。但是这些材料在其非晶态下固有的不稳定性降低了存储单元的归档寿命。

著录项

  • 来源
    《Solid state technology》 |2011年第10期|p.18-20|共3页
  • 作者

    JULIEN VITIELLO;

  • 作者单位

    Altatech Semiconductor S.A. Montbonnot-Saint-Martin, France;

  • 收录信息 美国《科学引文索引》(SCI);美国《工程索引》(EI);
  • 原文格式 PDF
  • 正文语种 eng
  • 中图分类
  • 关键词

  • 入库时间 2022-08-18 01:35:12

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