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摘要

A temporary stand-in process used in solvent cleaning being started up for the first time was behind a June fire at Intel's Fab 22 facilities in Chandler, AZ. Brazil has given CEITEC the green light for the nation's first chip fab. KLA-Tencor has joined SEMATECH's lithography defect reduction program, housed at the U. of Albany's College of Nanoscale Science and Engineering (CNSE), to collaborate on several areas of EUV lithography.
机译:6月,位于亚利桑那州钱德勒的英特尔Fab 22工厂发生火灾后,首次启动了用于溶剂清洁的临时替代流程。巴西已为CEITEC批准了该国的第一家芯片厂。 KLA-Tencor已加入SEMATECH的光刻缺陷减少计划,该计划位于美国奥尔巴尼纳米科学与工程学院(CNSE)的美国,以在EUV光刻的多个领域进行合作。

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  • 来源
    《Solid state technology》 |2011年第8期|p.6-7|共2页
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  • 收录信息 美国《科学引文索引》(SCI);美国《工程索引》(EI);
  • 原文格式 PDF
  • 正文语种 eng
  • 中图分类
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  • 入库时间 2022-08-18 01:35:08

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