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Macrodefect inspection for 3D packages The NSX 320 automated macro defect (>5um) inspection system targets 3D advanced packaging processes such as through-silicon vias (TSV), providing critical inspection capabilities for edge trimming metrology, wafer alignment during bonding processes, sawn wafers on film frames, and other TSV-related processes. It incorporates the company's XSoft2 software including high-speed staging, on-the-fly image capture, and a range of sensor and objective options. Features include critical dimension measurement, 3D sensors for TSV depth or bump metrology, and the ability to flip wafers to allow inspection of both front and back surfaces. Rudolph Technologies,
机译:3D封装的宏观缺陷检查NSX 320自动宏观缺陷(> 5um)检查系统的目标是3D先进封装工艺,例如硅通孔(TSV),为边缘修整度量,键合过程中的晶圆对准,已锯切的晶圆提供关键的检测功能电影胶片和其他与TSV相关的过程。它整合了该公司的XSoft2软件,包括高速升级,实时图像捕获以及一系列传感器和物镜选项。功能包括关键尺寸测量,用于TSV深度或凸块计量的3D传感器,以及能够翻转晶圆以检查正面和背面的功能。鲁道夫技术公司

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  • 来源
    《Solid state technology》 |2011年第7期|p.42-43|共2页
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  • 作者单位
  • 收录信息 美国《科学引文索引》(SCI);美国《工程索引》(EI);
  • 原文格式 PDF
  • 正文语种 eng
  • 中图分类
  • 关键词

  • 入库时间 2022-08-18 01:35:07

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