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Predictive, short-interval scheduling improves litho utilization and cycle time

机译:预测性的短时间间隔调度可提高光刻利用率和周期时间

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摘要

There is a strong need to use optimization systems and processes to better match lots and tools, keeping litho tools fully utilized and reducing wafer cycle time. These benefits are realized by repeatedly creating new litho schedules based on the changing state of the fab. Prediction provides a snapshot of the future, allowing better lot grouping and increased tool utilization.
机译:迫切需要使用优化系统和工艺来更好地匹配批次和工具,以保持光刻工具的充分利用并减少晶圆循环时间。这些好处是通过根据晶圆厂状态的变化反复创建新的光刻计划来实现的。预测提供了未来的快照,从而可以更好地进行批次分组并提高工具利用率。

著录项

  • 来源
    《Solid state technology》 |2011年第2期|p.17-18|共2页
  • 作者

    Steve Marteney;

  • 作者单位

    West Virginia U Applied Materials Inc., 5245 Yea-ger Road, Salt Lake City, UT USA 84116;

  • 收录信息 美国《科学引文索引》(SCI);美国《工程索引》(EI);
  • 原文格式 PDF
  • 正文语种 eng
  • 中图分类
  • 关键词

  • 入库时间 2022-08-18 01:35:06

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