首页> 外文期刊>Solid state technology >IEDM preview: 20nm and below
【24h】

IEDM preview: 20nm and below

机译:IEDM预览:20nm及以下

获取原文
获取原文并翻译 | 示例
       

摘要

There have been three primary drivers in the semiconductor industry for the last four decades: Area, power/perfor-mance and cost. The well-known push to cram more function-ality onto a single chip through continued scaling - or into a single package through 3D integration and other advanced packaging techniques - has been well documented. Today, with the exception of Intel, the industry's leading edge devices in high volume manufacturing have critical dimensions of 28nm. Intel, racing ahead, introduced the 22nm IvyBridge chip in 2011 and has announced plans to have 14nm by the end of 2013. How long this kind of scaling can continue is the subject of some debate, with most recognizing the EUV lithography will be required at some point, most likely for the 10nm generation (Intel has said it doesn't need it for 14nm).
机译:在过去的四十年中,半导体行业一直有三个主要的推动力:面积,功率/性能和成本。通过持续扩展将更多功能添加到单个芯片上或通过3D集成和其他高级封装技术将单个功能封装到单个封装中的众所周知的努力已得到充分证明。如今,除英特尔外,大批量生产中的业界领先设备的关键尺寸均为28nm。英特尔一路领先,于2011年推出了22nm IvyBridge芯片,并宣布计划在2013年底前达到14nm。这种缩放能否持续多久是一些辩论的主题,大多数人都认识到EUV光刻需要在某一点上,最有可能用于10nm代(英特尔已表示14nm不需要它)。

著录项

  • 来源
    《Solid state technology》 |2012年第9期|p.14-1729|共5页
  • 作者

    PETE SINGER;

  • 作者单位
  • 收录信息 美国《科学引文索引》(SCI);美国《工程索引》(EI);
  • 原文格式 PDF
  • 正文语种 eng
  • 中图分类
  • 关键词

  • 入库时间 2022-08-18 01:35:03

相似文献

  • 外文文献
  • 中文文献
  • 专利
获取原文

客服邮箱:kefu@zhangqiaokeyan.com

京公网安备:11010802029741号 ICP备案号:京ICP备15016152号-6 六维联合信息科技 (北京) 有限公司©版权所有
  • 客服微信

  • 服务号