机译:ECAE提高了溅射靶的性能
Honeywell Elect Mat, Sunnyvale, CA USA;
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机译:在其寿命中的工业规模平面Mo-靶的溅射性能:目标侵蚀和薄膜性质
机译:硫化对基于溅射曲调季度靶标制备的Cu(,Ga)(Se,S)(2)细胞性能的影响
机译:GA浓度对陶瓷季靶法制溅射法制造的CuCingase2细胞性能的影响
机译:带ECAE的NCV卡尔曼滤波器跟踪机动目标的性能。
机译:溅射靶腐蚀及其对长时间直流磁控溅射镀膜的影响
机译:磁控溅射与硬滤膜硬滤膜:环境与经济表演的比较
机译:源自沉积速率提高的电镀NiP靶材的磷含量极高的溅射三元Ni-P-W涂层的显微硬度