首页> 外文期刊>Solid State Technology >The technomics of 22nm
【24h】

The technomics of 22nm

机译:22nm的技术

获取原文
获取原文并翻译 | 示例
       

摘要

Extensions to traditional resolution enhancement technology (RET) are not likely to provide sufficient process margin to overcome the low-k^sub 1^ photolithography challenges of 22nm production. Simulation model accuracy will continue to improve to meet demanding error budgets at 22nm, and correction features, such as adaptive fragmentation, will be available to the optical proximity correction (OPC) engineer for dynamically adjusting mask correction features.
机译:传统分辨率增强技术(RET)的扩展不太可能提供足够的工艺裕度来克服22nm生产中的低k低于1 ^光刻挑战。仿真模型的准确性将继续提高,以满足22nm的苛刻误差预算,光学接近度校正(OPC)工程师将可以使用诸如自适应分段等校正功能来动态调整掩模校正功能。

著录项

  • 来源
    《Solid State Technology》 |2009年第2期|p.32-32|共1页
  • 作者

    C Albertalli;

  • 作者单位

    C. Albertalli, Mentor Graphics, Wilsonville, OR USACharlie Albertalli is a director of product marketing at Mentor Graphics Corp., Wilsonville, OR, USA;

    email charlie_albertalli@mentor.com.;

  • 收录信息 美国《科学引文索引》(SCI);美国《工程索引》(EI);
  • 原文格式 PDF
  • 正文语种 eng
  • 中图分类
  • 关键词

  • 入库时间 2022-08-17 13:43:31

相似文献

  • 外文文献
  • 中文文献
  • 专利
获取原文

客服邮箱:kefu@zhangqiaokeyan.com

京公网安备:11010802029741号 ICP备案号:京ICP备15016152号-6 六维联合信息科技 (北京) 有限公司©版权所有
  • 客服微信

  • 服务号