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机译:欧洲焦点

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摘要

E-beam litho tool supplier Vistee, semiconductor research group CEA/Leti, and DFM company D2S are collaborating on refining and validating advanced design-for-e-beam technology for the 45nm and 32nm nodes.
机译:电子束光刻工具供应商Vistee,半导体研究小组CEA / Leti和DFM公司D2S正在合作完善和验证适用于45nm和32nm节点的先进的电子束设计技术。

著录项

  • 来源
    《Solid State Technology》 |2009年第2期|p.9-9|共1页
  • 作者

    Anonymous;

  • 作者单位
  • 收录信息 美国《科学引文索引》(SCI);美国《工程索引》(EI);
  • 原文格式 PDF
  • 正文语种 eng
  • 中图分类
  • 关键词

  • 入库时间 2022-08-17 13:43:31
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