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Inside the first 450mm printed wafer

机译:在第一个450mm印刷晶圆内

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摘要

The company used its SMS-NIL technology (aka soft molecular-scale nanoimprint lithography) to imprint the wafer. "It was beneficial because it's very compliant and could also accommodate the limited wafer quality available at 450mm at that point in time," said Wimplinger. The company imprinted 35nm lines and spaces, but has demonstrated "capability down to 12.5nm lines and spaces on smaller substrates," he noted.
机译:该公司使用其SMS-NIL技术(又名软分子级纳米压印光刻技术)对晶片进行压印。 Wimplinger说:“这是有益的,因为它非常合规,并且还可以适应当时450mm晶圆的有限质量。”他指出,该公司印制了35nm的线条和空间,但已展示出“在较小的基板上的能力可降至12.5nm的线条和空间”。

著录项

  • 来源
    《Solid State Technology》 |2011年第9期|p.7-8|共2页
  • 作者

    Vogler; Debra;

  • 作者单位
  • 收录信息 美国《科学引文索引》(SCI);美国《工程索引》(EI);
  • 原文格式 PDF
  • 正文语种 eng
  • 中图分类
  • 关键词

  • 入库时间 2022-08-17 13:43:33

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