机译:在Si(1 1 1)上生长具有不同缓冲层的Epitaxia1 GaN膜
Heteroepitaxy; Buffer layer; Photoluminescence spectra; Film strain; Micro-cracks;
机译:使用(0001)蓝宝石衬底上生长的LT-AlGaN缓冲层的LT-AlGaN膜和HT-GaN膜的特性
机译:通过金属有机化学气相沉积法生长的(111)Si上的GaN膜中的生长应力和裂纹。 Ⅱ。梯度AlGaN缓冲层
机译:通过金属有机化学气相沉积法生长的(111)Si上的GaN膜中的生长应力和裂纹。 Ⅰ。 AIN缓冲层
机译:具有不同缓冲层的Si(111)上的外延GaN膜
机译:通过异质外延GaN薄膜中的缓冲层控制应力和缺陷
机译:使用双AlN缓冲层在m面蓝宝石上生长的半极性(11-22)GaN的各向异性结构和光学性质
机译:双缓冲层对射频等离子体辅助分子束外延生长Ga极性GaN薄膜性能的影响