机译:利用基于光发射光谱的终点技术开发先进的等离子体工艺,以在异质结双极晶体管制造中在GaAs上蚀刻AlGaAs
机译:使用低温光致发光技术评估AlGaAs / GaAs异质结双极晶体管中铍的外扩散
机译:N_2或Ar等离子体暴露对GaAs / AlGaAs异质结双极晶体管的影响
机译:AlGaAs / GaAs异质结双极晶体管的电子回旋共振氢和氮等离子体表面钝化
机译:N_2或AR等离子体暴露对GaAs / Algaas异质结双极晶体管的影响
机译:分析和建模有助于AlGaAs / GaAs异质结双极晶体管可靠性的物理机制。
机译:等离子刻蚀过程中用光发射光谱仪进行早期故障检测的相似率分析
机译:Si同质结,AlgaAs / GaAs异质结和Si / SiGe异质结双极晶体管的拟鸣区域