首页> 外文期刊>Solid-State Electronics >RF MOSFET: recent advances, current status and future trends
【24h】

RF MOSFET: recent advances, current status and future trends

机译:RF MOSFET:最新进展,当前状态和未来趋势

获取原文
获取原文并翻译 | 示例
           

摘要

Recent advances in complementary metal oxide semiconductor (CMOS) processing, continuous scaling of gate length, and progress in silicon on insulator have stirred serious discussions on the suitability of metal-oxide semiconductor field-effect transistors (MOSFETs) for RF/microwave applications. This paper covers the recent advances and current status of mainstream CMOS as the dominating technology in very large scale integration, future trends of RF MOSFETs, and applications of MOSFETs in RF electronics. Aspects of RF MOSFET modeling are also addressed. Despite some lingering debates, the prospects for RF MOS with operating frequencies in the lower GHz range are very promising.
机译:互补金属氧化物半导体(CMOS)处理,栅极长度的连续缩放以及绝缘体上硅的进展等方面的最新进展引起了关于金属氧化物半导体场效应晶体管(MOSFET)是否适合RF /微波应用的严肃讨论。本文介绍了主流CMOS作为大规模集成中的主导技术的最新进展和现状,RF MOSFET的未来趋势以及MOSFET在RF电子产品中的应用。还讨论了RF MOSFET建模的各个方面。尽管争论不休,但工作频率在较低GHz范围内的RF MOS的前景非常乐观。

著录项

  • 来源
    《Solid-State Electronics》 |2003年第11期|p.1881-1895|共15页
  • 作者

    Juin J. Liou; Frank Schwierz;

  • 作者单位

    School of EE and CS, University of Central Florida, Orlando, FL 32816 2450, USA;

  • 收录信息 美国《科学引文索引》(SCI);美国《工程索引》(EI);美国《生物学医学文摘》(MEDLINE);
  • 原文格式 PDF
  • 正文语种 eng
  • 中图分类 一般性问题;
  • 关键词

相似文献

  • 外文文献
  • 中文文献
  • 专利
获取原文

客服邮箱:kefu@zhangqiaokeyan.com

京公网安备:11010802029741号 ICP备案号:京ICP备15016152号-6 六维联合信息科技 (北京) 有限公司©版权所有
  • 客服微信

  • 服务号