机译:通过使用P型器件和高K材料改进了低压低功耗嵌入式2T-SONOS闪存
Philips Research Leuven, Kapeldreef 75, B-3001 Leuven, Belgium;
SONOS; flash; low power; non-volatile memory; high-k materials; HfO_2; HfSiON; reliability;
机译:使用高K材料作为隧道电介质的低压低功耗NROM的编程/擦除注入电流特性
机译:用于电荷捕获存储装置的TiO_2-ZRO_2的高k复合材料,低电压下的大存储器窗口
机译:使用高k P(VDF-TrFE)栅极电介质和聚酰亚胺电荷存储层的非易失性柔性OFET存储器件的低压操作
机译:面向嵌入式应用的具有低电压和低功耗操作的新型单多晶硅闪存单元
机译:低功耗,低电压和不可靠的硅器件的架构解决方案
机译:基于Ω型栅极有机铁电P(VDF-TrFE)场效应晶体管的低可编程电压非易失性存储器件使用p型硅纳米线通道
机译:低压闪存操作的基于高k的多层隧道势垒的分析和实现