机译:外在条件下低温下B的瞬态增强扩散
Infineon Technologies, CL TD TI TCAD. Otto-Hahn-Ring 6. Munich D-81739, Germany;
TED; dopant diffusion; modelling; point defect clustering;
机译:注入低能量砷离子的硅(100)中瞬态增强扩散的注入温度依赖性
机译:从在稳定状态会聚和瞬态线性扩散之间的传输条件下测量的微盘伏安数据中提取电极动力学参数,通常适用于室温离子液体
机译:从在稳定状态会聚和瞬态线性扩散之间的传输条件下测量的微盘伏安数据中提取电极动力学参数,通常适用于室温离子液体
机译:硅中外在缺陷演化和瞬态增强扩散的原子模拟
机译:对流驱动的流场和气相沉积温度分布在微重力条件下的瞬态数值模拟。
机译:低温条件下肌浆网膜的中等分辨率轮廓结构用于瞬时捕获E1约P。
机译:二维模拟由于外部基极注入引起的siGe HBT基极的瞬态增强硼外扩散
机译:模拟温度瞬态加热和变形条件下辐照温度,流量和加热速率对熔覆流动特性的影响。