机译:四乙氧基硅烷/氧等离子体沉积在Si衬底上的SiO_2薄膜的结构和电学性质
CNR-IMM, stradale Primosole 50, 95121 Catania, Italy;
plasma processing and deposition; TEOS (tetraethoxysilane); silicon dioxide;
机译:通过等离子增强金属有机化学气相沉积法在MOCVD-Pt / SiO_2 / Si衬底上沉积的SrBi_2Ta_2O_9铁电薄膜的电学性能
机译:射频磁控溅射沉积在Pt / tio_2 / sio_2 / si衬底上的Bi_(1.5)mg_(1.0)nb_(1.5)o_7薄膜的结构和电学性质
机译:沉积在Pt / Ti / SiO_2 / Si衬底上的织构化钛酸镧镧钙薄膜的微观结构和电学性质
机译:退火温度对SiO_2衬底上脉冲激光沉积薄膜结构和磁性的影响
机译:沉积在微波等离子体盘反应器中的多晶金刚石薄膜的电学性质和物理特性。
机译:等离子体增强原子层沉积在低温下沉积的HfO2薄膜的结构光学和电学性质
机译:使用射频磁控溅射在$ Pt / Ti / SiO_2 / Si $衬底上沉积的$ CaCu_3Ti_4O_ {12} $薄膜的沉积和介电特性
机译:沉积在硅衬底上的钛镍膜的结构和电学特性