机译:高k栅极电介质的MOSFET栅极泄漏的量子力学建模
Sherman Fairchild Center, Electrical and Computer Engineering Department, Lehigh University, 16A Memorial Dr. E., Bethlehem, PA 18015, United States;
direct tunneling; high-k dielectrics; gate current; quantum mechanical;
机译:用于确定22 nm节点双栅极SOI MOSFET中足够的高k电介质的栅极隧穿泄漏的分析模型
机译:使用栅极隧穿泄漏的解析模型研究UTB SOI MOSFET的潜在高k电介质
机译:栅极工程对具有高k电介质的纳米级MOSFET栅极泄漏行为的影响
机译:具有超薄高k电介质和金属栅电极的缩放NMOS晶体管栅极漏电流的量子机械模型
机译:基于Hafnium的高k栅极电介质MOSFET的1 / F噪声及造型评论
机译:具有高k La2O3 / ZrO2栅极电介质的肖特基势垒SOI-MOSFET
机译:高K介质栅极超短沟道二维量子效应的有限元模拟