机译:再氧化氮氧化物(RONO)作为非易失性存储器的电荷捕获介质的可行性
FLASH-PA Team, Memory Division, Samsung Electronics Co. Ltd., Giheung 449-711, Republic of Korea;
re-oxidized nitrided oxide (RONO); oxideitrogen-rich layer/oxide; charge-trapping medium; non-volatile memory; SiON;
机译:基于再氧化一氧化二氮的新型电荷捕捉非易失性存储器
机译:具有多级单元操作的高可靠性金属氧化物-氮化物-氧化物-半导体类型的NAND闪存的富硅氮化物电荷陷阱层工程
机译:通过控制SiN电荷俘获层中的氮分布来改善金属氧化物,氮化物,氧化物,硅存储器中的擦除保留权衡
机译:富硅氧化物可作为Fowler-Nordheim和热载流子类型非易失性存储单元中的电荷捕获介质
机译:基于氮化物的局部电荷陷阱非易失性存储器件的阈值电压不稳定性。
机译:通过利用氧化铝的高介电常数和高带隙低功率和闪光阵列的低功率和闪光阵列的保留增强
机译:HTO / Al2O3双层封闭氧化物在氮化物 - 陷阱非易失性存储器中的影响
机译:用氮化siO(2)/ si(100)界面制备的sONOs非易失性存储器堆栈的循环耐久性;电子器件字母