机译:干法刻蚀加工的表面纹理形状对垂直发光二极管提取效率的影响
Department of Advanced Materials Science & Engineering, Sungkyunkwan University, Suwon, Gyeonggi Do 440-746, Republic of Korea;
GaN; dry etching; light-emitting diode;
机译:镍纳米粒子掩模干法刻蚀改进了具有表面纹理化铟锡氧化物电极的GaN基发光二极管的光提取
机译:具有高度集成的表面纹理的垂直注入GaN基发光二极管的光提取增强
机译:通过图案化光电化学湿法刻蚀在台面周围制造表面光栅来增强发光二极管的光提取能力
机译:GaN基发光二极管和垂直腔表面发射激光器的量子效率增强。
机译:非绝缘电流阻挡层和带纹理的表面增强了氮化物基紫外垂直注入发光二极管的性能
机译:用干蚀刻工艺制造三维球面微透镜的有机发光二极管的光提取效率