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Extraction of series resistance using physical mobility and current models for MOSFETs

机译:使用物理迁移率和电流模型提取MOSFET的串联电阻

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摘要

The series resistance at source and drain junctions is evaluated using a surface potential based current vs. gate bias (I-V_G) model. To achieve ultimate accuracy and efficiency, a I_0-V_G model is newly advised for spreadsheet analysis. The electric field dependent mobility model in the literature is modified for easier graphical comparison with the conventional V_T-based expression. Using NMOSFETs with different gate length, the exponent for the surface phonon scattering is evaluated to be ≈0.61 for the electric field based expression, and is close to unity in case of the KT-based expression. A smoothly non-linear series resistance vs. gate length relation is successfully confirmed, and the rough agreement with the conventional analysis is discussed to be reasonable.
机译:使用基于表面电势的电流与栅极偏置(I-V_G)模型评估源极和漏极结处的串联电阻。为了获得最高的准确性和效率,新建议使用I_0-V_G模型进行电子表格分析。修改了文献中与电场有关的迁移率模型,以便与传统的基于V_T的表达式进行图形化比较。使用具有不同栅极长度的NMOSFET,对于基于电场的表达式,表面声子散射的指数估计为≈0.61,在基于KT的表达式中,接近于1。成功地确定了平滑的非线性串联电阻与栅极长度的关系,并讨论了与常规分析的大致一致是合理的。

著录项

  • 来源
    《Solid-State Electronics》 |2008年第2期|p.190-195|共6页
  • 作者

    Hisao Katto;

  • 作者单位
  • 收录信息 美国《科学引文索引》(SCI);美国《工程索引》(EI);美国《生物学医学文摘》(MEDLINE);
  • 原文格式 PDF
  • 正文语种 eng
  • 中图分类 一般性问题;
  • 关键词

  • 入库时间 2022-08-18 01:35:09

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