机译:三阱技术中正向和反向深n阱偏置对0.13μmn沟道MOSFET的1 / f噪声的影响
Division of Circuits and Systems, School of Electrical and Electronic Engineering, Nanyang Technological University, 50 Nanyang Avenue, S1-B2-B13, IC Design Lab. 1, Singapore 639798, Singapore;
Device Technology Division, Chartered Semiconductor Manufacturing Ltd., 60 Woodlands Industrial Park D, Street 2, Singapore 738406, Singapore;
Division of Circuits and Systems, School of Electrical and Electronic Engineering, Nanyang Technological University, 50 Nanyang Avenue, S1-B2-B13, IC Design Lab. 1, Singapore 639798, Singapore;
1/f noise; deep n-well; forward/reverse body effects; secondary body biasing; composite low frequency noise model;
机译:0.13μmp-MOSFET中的低频噪声表征。缩小的0.25、0.18和0.13μm技术对1 / f噪声的影响
机译:深亚微米Si / SiGe n沟道MOSFET中电流波动的研究:相关技术参数对热噪声性能的影响
机译:0.25μm技术处理的n沟道MOSFET中的1 / f噪声测量BSIM3v3噪声参数的提取
机译:具有深N-Well NMOS晶体管的前向偏置RF-LNA的性能
机译:深亚微米MOSFET技术中的随机掺杂和低频噪声抑制。
机译:健康技术评估对慢性阻塞性肺病中吸入定期组合三重治疗的规定模式的影响
机译:反转层量化在深亚微米n沟道MOSFET中的子带隙冲击电离中的作用