机译:多晶硅薄膜晶体管中漏电流对沟道膜质量的依赖性以及使用器件仿真的分析
Department of Electronics and Informatics, Ryukoku University, Seta, Otsu 520-2194, Japan,Joint Research Center for Science and Technology, Ryukoku University, Seta, Otsu 520-2194, Japan,Innovative Materials and Processing Research Center, High-Tech Research Center, Seta, Otsu 520-2194, Japan;
Department of Physics, Aristotle University of Thessaloniki, 54124 Thessaloniki, Greece;
off-leakage current; poly-si; thin-film transistor; device simulation;
机译:InGaZnO薄膜晶体管中漏电流的仿真与建模
机译:p型多晶硅薄膜晶体管退化的器件仿真分析
机译:激光激活对不同沟道长度的多晶硅薄膜晶体管器件性能的影响
机译:通过器件仿真评估非晶氧化物半导体薄膜晶体管的传输特性与沟道厚度的关系
机译:基于有机薄膜场效应晶体管和与硅固态器件集成在一起的固定离子通道的化学和生物传感体系结构的方法和评估。
机译:凸源/漏极(RSD)和垂直掺杂漏极(LDD)多Si薄膜晶体管
机译:ZnO薄膜晶体管光泄漏电流的机理模拟