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机译:Si(111)衬底上的AlGaN / GaN HEMT中基于Ta的扩散阻挡层的欧姆接触电阻和表面形态的分析和优化
RFIC Center, Kwangwoon University, Nowon-Ku, Seoul 139-701, Republic of Korea;
RFIC Center, Kwangwoon University, Nowon-Ku, Seoul 139-701, Republic of Korea;
RFIC Center, Kwangwoon University, Nowon-Ku, Seoul 139-701, Republic of Korea;
Ohmic contact resistance; Surface morphology; Rapid thermal annealing; AlGaN/GaN high-electron-mobility; transistor (HEMT);
机译:使用准AlGaN势垒层改善AlGaN / GaN HEMT结构的表面形态和薄层电阻
机译:在两层Si3N4 / SiO2介电掩模上,用于与AlGaN / GaN HEMT的低电阻欧姆接触
机译:通过在AlGaN / GaN HEMT异质结构中的欧姆区进行表面等离子体处理,降低了接触电阻并提高了晶体管的性能
机译:三种(111),蓝宝石,4H-SIC基板上的Algan / GaN Hemts中Ti / Al / Ta / Au欧姆接触的电性能和表面形态的比较优化
机译:用于AlGaN / GaN和InAlN / GaN二极管以及在硅(111)衬底上生长的高迁移率晶体管的CMOS兼容氧化钌肖特基接触的研究。
机译:AlGaN / GaN HEMT的优化Ti / Al / Ta / Au欧姆接触的电学表征和纳米级表面形貌
机译:具有高al浓度和si-Hp 111衬底的alGaN / GaN HEmT的低源极/漏极接触电阻
机译:欧姆接触电阻对alN / GaN HEmT结构阻挡层厚度的依赖性